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| 品牌 | Eksma | 價格區間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 光學元件 | 應用領域 | 醫療衛生,環保,化工,電子/電池,綜合 |
Eksma 寬帶激光反射鏡-2
Eksma 寬帶激光反射鏡-2
寬帶激光反射鏡在設計的寬帶波長范圍內提供高反射率。反射鏡專為鈦，藍寶石，染料，二極管和YAG激光應用而設計。
產品介紹
Ø寬帶性能適用于流行的激光波長范圍
Ø高反射率-（s + p）/ 2偏振的Ravg> 99％
Ø由UV級熔融石英或BK7基材制成
Ø設計用于45°或0°入射角
Ø對于超快速應用-720-880 mm的寬帶低GDD激光鏡可在此處找到
寬帶介電反射鏡在規定的波長范圍內提供了優化的寬帶性能。寬帶激光反射鏡專為使用Ti：Sapphire，染料，二極管和YAG激光器的應用而設計。
獲得的高拋光質量對于低波前畸變，低散射和高損傷閾值至關重要。
EKSMA OPTICS是激光，激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學，工業，醫學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質和非線性頻率轉換晶體，光機械，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。
公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序，質量控制評估以及對新技術的承諾，我們不斷改進并提供優良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
產品型號
BK7; ø 50.8 x 8 mm
型號 | 材料 | D | ET | R, % (S+P)/2 | AOI | 波長 | 應用 |
075-3644 | BK7 | 50.8 mm | 8 mm | 99.0% | 45° | 360-440 nm | Ti:Sa 2H |
075-3644-i0 | BK7 | 50.8 mm | 8 mm | 99.0% | 0° | 360-440 nm | Ti:Sa 2H |
075-4254 | BK7 | 50.8 mm | 8 mm | 99.0% | 45° | 420-540 nm | Dye |
075-4254-i0 | BK7 | 50.8 mm | 8 mm | 99.0% | 0° | 420-540 nm | Dye |
075-5265 | BK7 | 50.8 mm | 8 mm | 99.0% | 45° | 520-650 nm | Dye |
075-5265-i0 | BK7 | 50.8 mm | 8 mm | 99.0% | 0° | 520-650 nm | Dye |
075-6085 | BK7 | 50.8 mm | 8 mm | 99.0% | 45° | 600-850 nm | Diode |
075-6085-i0 | BK7 | 50.8 mm | 8 mm | 99.0% | 0° | 600-850 nm | Diode |
075-7395 | BK7 | 50.8 mm | 8 mm | 99.0% | 45° | 730-950 nm | Ti:Sa |
075-7395-i0 | BK7 | 50.8 mm | 8 mm | 99.0% | 0° | 730-950 nm | Ti:Sa |
075-8011 | BK7 | 50.8 mm | 8 mm | 99.0% | 45° | 800-1100 nm | Diode, YAG |
075-8011-i0 | BK7 | 50.8 mm | 8 mm | 99.0% | 0° | 800-1100 nm | Diode, YAG |
UVFS; ø12.7 x 3 mm
型號 | 材料 | D | ET | R, % (S+P)/2 | AOI | 波長 | 應用 |
081-2225 | UVFS | 12.7 mm | 3 mm | 99.0% | 45° | 220-250 nm | Spectroscopy |
081-2225-i0 | UVFS | 12.7 mm | 3 mm | 99.0% | 0° | 220-250 nm | Spectroscopy |
081-2638 | UVFS | 12.7 mm | 3 mm | 99.0% | 45° | 260-380 nm | Spectroscopy |
081-2638-i0 | UVFS | 12.7 mm | 3 mm | 99.0% | 0° | 260-380 nm | Spectroscopy |
081-3644 | UVFS | 12.7 mm | 3 mm | 99.0% | 45° | 360-440 nm | Ti:Sa 2H |
081-3644-i0 | UVFS | 12.7 mm | 3 mm | 99.0% | 0° | 360-440 nm | Ti:Sa 2H |
081-4254 | UVFS | 12.7 mm | 3 mm | 99.0% | 45° | 420-540 nm | Dye |
081-4254-i0 | UVFS | 12.7 mm | 3 mm | 99.0% | 0° | 420-540 nm | Dye |
081-5265 | UVFS | 12.7 mm | 3 mm | 99.0% | 45° | 520-650 nm | Dye |
081-5265-i0 | UVFS | 12.7 mm | 3 mm | 99.0% | 0° | 520-650 nm | Dye |
081-6085 | UVFS | 12.7 mm | 3 mm | 99.0% | 45° | 600-850 nm | Diode |
081-6085-i0 | UVFS | 12.7 mm | 3 mm | 99.0% | 0° | 600-850 nm | Diode |
081-7395 | UVFS | 12.7 mm | 3 mm | 99.0% | 45° | 730-950 nm | Ti:Sa |
081-7395-i0 | UVFS | 12.7 mm | 3 mm | 99.0% | 0° | 730-950 nm | Ti:Sa |
081-8011 | UVFS | 12.7 mm | 3 mm | 99.0% | 45° | 800-1100 nm | Diode, YAG |
081-8011-i0 | UVFS | 12.7 mm | 3 mm | 99.0% | 0° | 800-1100 nm | Diode, YAG |
UVFS; ø12.7 x 6 mm
型號 | 材料 | D | ET | R, % (S+P)/2 | AOI | 波長 | 應用 |
081-2225T6 | UVFS | 12.7 mm | 6 mm | 99.0% | 45° | 220-250 nm | Spectroscopy |
081-2225T6-i0 | UVFS | 12.7 mm | 6 mm | 99.0% | 0° | 220-250 nm | Spectroscopy |
081-2638T6 | UVFS | 12.7 mm | 6 mm | 99.0% | 45° | 260-380 nm | Spectroscopy |
081-2638T6-i0 | UVFS | 12.7 mm | 6 mm | 99.0% | 0° | 260-380 nm | Spectroscopy |
081-3644T6 | UVFS | 12.7 mm | 6 mm | 99.0% | 45° | 360-440 nm | Ti:Sa 2H |
081-3644T6-i0 | UVFS | 12.7 mm | 6 mm | 99.0% | 0° | 360-440 nm | Ti:Sa 2H |
081-4254T6 | UVFS | 12.7 mm | 6 mm | 99.0% | 45° | 420-540 nm | Dye |
081-4254T6-i0 | UVFS | 12.7 mm | 6 mm | 99.0% | 0° | 420-540 nm | Dye |
081-5265T6 | UVFS | 12.7 mm | 6 mm | 99.0% | 45° | 520-650 nm | Dye |
081-5265T6-i0 | UVFS | 12.7 mm | 6 mm | 99.0% | 0° | 520-650 nm | Dye |
081-6085T6 | UVFS | 12.7 mm | 6 mm | 99.0% | 45° | 600-850 nm | Diode |
081-6085T6-i0 | UVFS | 12.7 mm | 6 mm | 99.0% | 0° | 600-850 nm | Diode |
081-7395T6 | UVFS | 12.7 mm | 6 mm | 99.0% | 45° | 730-950 nm | Ti:Sa |
081-7395T6-i0 | UVFS | 12.7 mm | 6 mm | 99.0% | 0° | 730-950 nm | Ti:Sa |
081-8011T6 | UVFS | 12.7 mm | 6 mm | 99.0% | 45° | 800-1100 nm | Diode, YAG |
081-8011T6-i0 | UVFS | 12.7 mm | 6 mm | 99.0% | 0° | 800-1100 nm | Diode, YAG |
基材
材料 | BK7 *玻璃或UV級熔融石英 |
S1表面平整度 | λ/10 typical at 633 nm |
S1表面質量 | 20-10表面光潔度 (MIL-PRF-13830B) |
S2表面質量 | 簡單拋光 |
直徑公差 | + 0.00 mm, - 0.12 mm |
厚度公差 | ± 0.25 mm |
楔 | < 3 minutes |
倒角 | 0.3 mm at 45° typical |
鍍膜
技術 | 電子束多層電介質或離子束濺射 |
附著力和耐久性 | 符合MIL-C-675A。不溶于實驗室溶劑 |
通光孔徑 | 超過中心直徑的85％ |
損壞閾值 | 1 J / cm2，8納秒脈沖，典型值1064 nm |
鍍膜表面平整度 | 633 nm處的λ/ 10超過直徑的85％ |
入射角 | 0°或45° |
EKSMA OPTICS是激光，激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學，工業，醫學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質和非線性頻率轉換晶體，光機械，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。
公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序，質量控制評估以及對新技術的承諾，我們不斷改進并提供優良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
EKSMA OPTICS是激光，激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學，工業，醫學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質和非線性頻率轉換晶體，光機械，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。
公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序，質量控制評估以及對新技術的承諾，我們不斷改進并提供優良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
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